背景：
材料表面的微观几何形貌特性在很大程度上影响着它的许多技术性能和使用功能，近年来随着科技的发展，对各种材料表面精度也提出了越来越高得要求。目前，纳米科技成为研究热点，集成电路工艺加工的特征尺度进入亚微米，而光学显微镜已经满足不了观察更加微小物体的需求，这给科研人员提出了纳米级表面的测量和表征的问题。
扫描电子显微镜（SEM）的出现解决了这一问题，扫描电子显微镜是目前常见的用于
表面形貌观察的
失效分析技术。具有高分辨率，较高的放大倍数；景深效果好，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构；试样制备简单；配有X射线能谱仪装置，可同时进行形貌观察和微区成分分析。通过扫描电子显微镜观察材料表面形貌，为研究样品形态结构提供了便利，有助于监控产品质量，改善工艺。
定义：
形貌观察的主要内容是分析材料的几何形貌、材料的颗粒度、及颗粒度的分布、物相的结构等
应用范围：
材料、电子、冶金、航空、汽车、地学、医学、机械加工、半导体制造、陶瓷品等。
表面形貌图片：
金属粉末颗粒粘结状态
金属材料断口形貌特征
印制板焊盘镍腐蚀形态
晶须形貌观察
400-850-4050
